- USD ЦБ 03.12 30.8099 -0.0387
- EUR ЦБ 03.12 41.4824 -0.0244
Краснодар:
|
погода |
ГОСТ 22622-77
Группа Е00
МЕЖГОСУДАРСТВЕННЫЙ СТАНДАРТ
МАТЕРИАЛЫ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ
Термины и определения основных электрофизических параметров
Semiconductor materials. Terms and definitions of*
_________________
* Соответствует оригиналу. - Примечание .
MКC 01.040.29
29.045
Дата введения 1978-07-01
Постановлением Государственного комитета стандартов Совета Министров СССР от 18 июля 1977 года N 1755 дата введения установлена 01.07.78
ИЗДАНИЕ с Изменением N 1, утвержденным в мае 1982 года (ИУС 9-82)
Настоящий стандарт устанавливает применяемые в науке, технике и производстве термины и определения основных понятий полупроводниковых материалов.
Термины, установленные настоящим стандартом, обязательны для применения в документации всех видов, учебниках, учебных пособиях, технической и справочной литературе. Приведенные определения можно, при необходимости, изменять по форме изложения, не допуская нарушения границ понятий.
Для каждого понятия установлен один стандартизованный термин. Недопустимые к применению термины-синонимы приведены в стандарте в качестве справочных и обозначены "Ндп".
Для отдельных стандартизованных терминов в стандарте приведены в качестве справочных краткие формы, которые разрешается применять в случаях, исключающих возможность их различного толкования.
В стандарте приведен алфавитный указатель содержащихся в нем терминов на русском языке.
Стандартизованные термины набраны полужирным шрифтом, их краткая форма - светлым, а недопустимые синонимы - курсивом.
В стандарте приведено приложение, содержащее общие понятия физики твердого тела, применяемые к полупроводникам.
Термин |
Определение | |
1. Проводниковый материал |
Материал, предназначенный для использования его полупроводниковых свойств | |
2. Полупроводник |
По ГОСТ 19880-74* | |
________________ | ||
ВИДЫ И СОСТОЯНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВ | ||
3. Простой полупроводник |
Полупроводник, основной состав которого образован атомами одного химического элемента | |
4. Сложный полупроводник |
Полупроводник, основной состав которого образован атомами двух или большего числа химических элементов | |
5. Электронный полупроводник |
Полупроводник, электропроводность которого обусловлена в основном перемещением электронов проводимости | |
6. Дырочный полупроводник |
Полупроводник, электропроводность которого обусловлена в основном перемещением дырок проводимости | |
7. Примесный полупроводник |
Полупроводник, электропроводность которого определяется примесями | |
8. Собственный полупроводник |
Полупроводник, не содержащий примесей, влияющих на его электропроводность | |
9. Вырожденный полупроводник |
Полупроводник, уровень Ферми в котором расположен в зоне проводимости или в валентной зоне, или же в запрещенной зоне на расстоянии от границ указанных зон, меньшем кТ | |
10. Невырожденный полупроводник |
Полупроводник, уровень Ферми в котором расположен в запрещенной зоне на расстоянии от ее границ, большем кТ | |
11. Частично компенсированный полупроводник |
Примесный полупроводник, электронная (дырочная) проводимость которого частично компенсирована дырочной (электронной) проводимостью примесей | |
12. Скомпенсированный полупроводник |
Примесный полупроводник, в котором в нормальных условиях концентрации электронов проводимости и дырок проводимости одинаковы | |
ОСНОВНЫЕ ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ ПОЛУПРОВОДНИКОВ | ||
13. Носитель заряда |
||
14. Дырка проводимости |
Незаполненная валентная связь, которая проявляет себя как положительный заряд, численно равный заряду электрона | |
15. Основные носители заряда полупроводника |
Носители заряда, концентрация которых в данном полупроводнике преобладает | |
16. Неосновные носители заряда полупроводника |
Носители заряда, концентрация которых в данном полупроводнике меньше, чем концентрация основных носителей заряда | |
17. Равновесные носители заряда полупроводника |
Носители заряда, возникновение которых явилось следствием тепловых колебаний кристаллической решетки полупроводника в условиях термодинамического равновесия | |
18. Неравновесные носители заряда полупроводника |
Носители заряда полупроводника, не находящиеся в термодинамическом равновесии по концентрации и (или) по энергетическому распределению | |
19. Горячие носители заряда |
Неравновесные носители заряда полупроводника, средняя энергия которых существенно превышает равновесную энергию, соответствующую температуре кристаллической решетки | |
20. Электронная электропроводность полупроводника |
Электропроводность полупроводника, обусловленная в основном перемещением электронов проводимости | |
21. Дырочная электропроводность |
Электропроводность полупроводника, обусловленная в основном перемещением дырок проводимости | |
22. Собственная электропроводность |
Электропроводность полупроводника, обусловленная генерацией пар электрон проводимости - дырка проводимости при любом способе возбуждения | |
23. Примесная электропроводность полупроводника |
Электропроводность полупроводника, обусловленная ионизацией атомов донорной или акцепторной примесей при любом способе возбуждения | |
24. Фотопроводимость |
Электропроводность полупроводника, обусловленная фоторезистивным эффектом | |
25. Собственная концентрация носителей заряда полупроводника |
Концентрация равновесных носителей заряда в собственном полупроводнике | |
26. Равновесная концентрация носителей заряда полупроводника |
Концентрация подвижных носителей заряда в полупроводнике в условиях термодинамического равновесия | |
27. Концентрация неравновесных носителей заряда полупроводника |
Концентрация носителей заряда в полупроводнике, отличная от равновесной | |
28. Избыточная концентрация носителей заряда полупроводника |
Избыток концентрации неравновесных носителей заряда в полупроводнике над концентрацией равновесных носителей заряда | |
29. Критическая концентрация электронов проводимости полупроводника |
Концентрация электронов проводимости полупроводника, при которой уровень Ферми совпадает с нижней границей зоны проводимости | |
30. Критическая концентрация дырок проводимости полупроводника |
Концентрация дырок проводимости полупроводника, при которой уровень Ферми совпадает с верхней границей валентной зоны | |
31. Эффективная масса носителя заряда полупроводника |
Величина, имеющая размерность массы и характеризующая движение носителя заряда в полупроводнике под действием внешнего электромагнитного поля | |
32. Эффективное сечение захвата носителя заряда полупроводника |
Величина, имеющая размерность площади и обратная произведению концентрации носителей заряда данного типа в полупроводнике на средний путь, проходимый носителями от освобождения до захвата | |
33. Диффузионная длина неосновных носителей заряда полупроводника |
Расстояние, на котором в однородном полупроводнике при одномерной диффузии в отсутствие электрического и магнитного полей избыточная концентрация неосновных носителей заряда уменьшается вследствие рекомбинации в е раз | |
34. Объемное время жизни неравновесных носителей заряда полупроводника |
Среднее время между генерацией и рекомбинацией неравновесных носителей зарядов в объеме полупроводника | |
35. Поверхностное время жизни неравновесных носителей заряда полупроводника |
Отношение избыточного количества неравновесных носителей заряда в объеме полупроводника к плотности их потока на поверхности | |
36. Эффективное время жизни неравновесных носителей заряда полупроводника |
Величина, характеризующая скорость убывания концентрации неравновесных носителей заряда вследствие их рекомбинации как в объеме, так и на поверхности полупроводника | |
37. Длина дрейфа неравновесных носителей заряда полупроводника |
Средняя длина переноса неравновесных носителей заряда в полупроводнике электрическим полем за время, прошедшее с момента их возбуждения до рекомбинации | |
38. Скорость поверхностной рекомбинации носителей заряда полупроводника |
Отношение плотности потока носителей заряда, рекомбинировавших на поверхности полупроводника, к концентрации избыточных носителей заряда у поверхности | |
39. Энергия активации примесей полупроводника |
Минимальная энергия возбуждения примесного атома, необходимая для создания примесной электропроводности полупроводника | |
40. Концентрация вырождения полупроводника |
Минимальная концентрация носителей заряда, соответствующая вырождению полупроводника при данной температуре | |
41. Степень компенсации полупроводника |
Отношение концентрации неосновных носителей заряда, созданных возбужденной примесью, и собственных носителей заряда полупроводника | |
42. Инверсионный слой полупроводника |
Приповерхностный слой полупроводника, обладающий электропроводностью, противоположной по закону электропроводности глубинных слоев | |
ПРОЦЕССЫ И ЯВЛЕНИЯ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ | ||
43. Освобождение носителя заряда полупроводника |
Возникновение электрона проводимости или дырки проводимости в результате возбуждения дефекта решетки полупроводника | |
44. Захват носителя заряда полупроводника |
Исчезновение электрона проводимости или дырки проводимости в результате перехода на локальный уровень дефекта решетки полупроводника | |
45. Инжекция носителей заряда |
Введение носителя заряда в полупроводник | |
46. Экстракция носителей заряда |
Выведение носителя заряда из полупроводника | |
47. Генерация носителей заряда полупроводника |
Процесс превращения связанного электрона в свободный, сопровождающийся образованием незавершенной связи с избыточным положительным зарядом | |
48. Генерация пары носителей заряда |
Возникновение в полупроводнике пары электрон проводимости - дырка проводимости в результате энергетического воздействия | |
49. Монополярная световая генерация носителей заряда полупроводника |
Возникновение в полупроводнике в результате оптического возбуждения неравновесных носителей одного знака | |
50. Биполярная световая генерация носителей заряда полупроводника |
Возникновение в полупроводнике в результате оптического возбуждения равного числа носителей зарядов обоих знаков | |
51. Рекомбинация носителей заряда полупроводника |
Нейтрализация пары электрон проводимости - дырка проводимости | |
52. Межзонная рекомбинация носителей заряда полупроводника |
Рекомбинация носителей заряда полупроводника, осуществляемая путем перехода свободного электрона в валентную зону | |
53. Фотонная рекомбинация носителей заряда полупроводника |
Межзонная рекомбинация носителей заряда полупроводника, сопровождаемая выделением фотона | |
54. Фотонная рекомбинация носителей заряда полупроводника |
Межзонная рекомбинация носителей заряда полупроводника, сопровождающаяся передачей акустической энергии кристаллической решетке | |
55. Поверхностная рекомбинация носителей заряда полупроводника |
Рекомбинация носителей заряда на поверхностных дефектах полупроводника | |
56. Диффузионный ток |
Направленное движение зарядов в полупроводнике, возникающее вследствие градиента концентрации носителей заряда | |
57. Дрейфовый ток |
Направленное движение носителей заряда в полупроводнике, вызванное градиентом потенциала электрического поля | |
58. Биполярная диффузия неравновесных носителей заряда полупроводника |
Совместная диффузия неравновесных электронов и дырок при наличии электрического поля | |
59. Прямой переход в полупроводнике |
Переход электрона в полупроводнике из валентной зоны в зону проводимости с сохранением волнового вектора | |
ЭФФЕКТЫ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ | ||
60. Фоторезистивный эффект |
Изменение электрического сопротивления полупроводника, обусловленное исключительно действием оптического излучения и не связанное с его нагреванием | |
61. Кристалл-фотоэффект |
Возникновение электрического поля в однородном неравномерно освещенном полупроводнике | |
62. Эффект поля в полупроводнике |
Изменение электропроводности приповерхностного слоя полупроводника под воздействием электрического поля | |
63. Фотомагнитоэлектрический эффект |
Возникновение в полупроводнике электрического поля, напряженность которого перпендикулярна магнитной индукции и потоку диффундирующих частиц под действием электромагнитного излучения | |
64. Термомагнитный эффект |
Возникновение поперечного градиента температур в полупроводнике при наличии продольного градиента температур и при воздействии поперечного магнитного поля | |
65. Электротермический эффект |
Выделение или поглощение тепловой энергии, обусловленное продольным градиентом температуры при протекании электрического тока через однородный полупроводник | |
66. Термогальванический эффект |
Возникновение поперечной напряженности электрического поля в полупроводнике вследствие наличия продольного градиента температур и поперечного магнитного поля | |
67. Поперечный термогальваномагнитный эффект |
Возникновение поперечного градиента температур в полупроводнике вследствие разброса скоростей носителей при протекании электрического тока и при воздействии поперечного магнитного поля | |
68. Продольный термогальваномагнитный эффект |
Возникновение продольного градиента температур в полупроводнике вследствие разброса скоростей носителей зарядов при протекании через него электрического тока и при воздействии поперечного магнитного поля | |
69. Магниторезистивный эффект |
Изменение электрического сопротивления полупроводника под действием магнитного поля | |
70. Эффект Холла |
Возникновение поперечного электрического поля при протекании электрического тока через полупроводник, помещенный в магнитное поле | |
71. Эффект Ганна |
Генерация высокочастотных колебаний электрического тока в полупроводнике под действием постоянного электрического поля | |
ЗОННАЯ СТРУКТУРА ПОЛУПРОВОДНИКОВ | ||
72. Энергетическая зона полупроводника |
Область значений полной энергии электронов в кристалле полупроводника | |
73. Разрешенная зона полупроводника |
Энергетическая зона или совокупность перекрывающихся в результате расщепления из какого-либо одного или нескольких энергетических уровней изолированных атомов в процессе образования структуры кристалла | |
74. Запрещенная зона полупроводника |
Область значений энергии, которыми не могут обладать электроны в полупроводнике | |
75. Свободная зона полупроводника |
Разрешенная зона полупроводника, в которой отсутствуют электроны проводимости при абсолютном нуле температуры | |
76. Зона проводимости полупроводника |
Свободная зона полупроводника, на уровнях которой при возбуждении могут находиться электроны проводимости | |
77. Заполненная зона полупроводника |
Разрешенная зона полупроводника, в которой при абсолютном нуле температуры все энергетические уровни заняты электронами | |
78. Валентная зона полупроводника |
Верхняя из заполненных зон полупроводника | |
79. Ширина запрещенной зоны полупроводника |
Разность энергий между нижним уровнем зоны проводимости и верхним уровнем валентной зоны полупроводника | |
80. Локальный энергетический уровень полупроводника |
Энергетический уровень, расположенный в запрещенной зоне полупроводника, обусловленный дефектом решетки, когда взаимодействием отдельных дефектов можно пренебречь | |
81. Примесный уровень полупроводника |
Локальный энергетический уровень полупроводника, обусловленный примесью | |
82. Демаркационный уровень полупроводника |
Локальный энергетический уровень полупроводника, для которого процессы рекомбинации и возврата в разрешенную зону в результате тепловых колебаний решетки равновероятны | |
83. Примесная зона полупроводника |
Энергетическая зона, образованная при взаимодействии примесей совокупностью примесных уровней, находящихся в запрещенной зоне полупроводника |
(Измененная редакция, Изм. N 1).
АЛФАВИТНЫЙ УКАЗАТЕЛЬ ТЕРМИНОВ НА РУССКОМ ЯЗЫКЕ
Время жизни неравновесных носителей заряда полупроводника объемное |
34 |
Время жизни неравновесных носителей заряда полупроводника поверхностное |
35 |
Время жизни неравновесных носителей заряда полупроводника эффективное |
36 |
Время жизни объемное |
34 |
Время жизни поверхностное |
35 |
Время жизни эффективное |
36 |
Генерация |
47 |
Генерация носителей заряда полупроводника |
47 |
Генерация носителей заряда полупроводника световая биполярная |
50 |
Генерация носителей заряда полупроводника световая монополярная |
49 |
Генерация пары |
48 |
Генерация пары носителей заряда |
48 |
Генерация световая биполярная |
50 |
Генерация световая монополярная |
49 |
Диффузия биполярная |
58 |
Диффузия неравновесных носителей заряда полупроводника биполярная |
58 |
Длина диффузионная |
33 |
Длина дрейфа |
37 |
Длина дрейфа неравновесных носителей заряда полупроводника |
37 |
Длина неосновных носителей заряда полупроводника диффузионная |
33 |
Дырка |
14 |
Дырка проводимости |
14 |
Захват носителя |
22 |
Захват носителя заряда полупроводника |
44 |
Зона валентная |
78 |
Зона заполненная |
77 |
Зона запрещенная |
74 |
Зона полупроводника валентная |
78 |
Зона полупроводника заполненная |
77 |
Зона полупроводника запрещенная |
74 |
Зона полупроводника примесная |
83 |
Зона полупроводника разрешенная |
73 |
Зона полупроводника свободная |
75 |
Зона полупроводника энергетическая |
72 |
Зона примесная |
83 |
Зона проводимости |
76 |
Зона проводимости полупроводника |
76 |
Зона разрешенная |
73 |
Зона свободная |
75 |
Зона энергетическая |
72 |
Инжекция |
45 |
Инжекция носителей заряда |
45 |
Концентрация вырождения |
40 |
Концентрация вырождения полупроводника |
40 |
Концентрация дырок критическая |
30 |
Концентрация дырок проводимости полупроводника критическая |
30 |
Концентрация избыточная |
28 |
Концентрация неравновесная |
27 |
Концентрация неравновесных носителей заряда полупроводника |
27 |
Концентрация носителей заряда полупроводника избыточная |
28 |
Концентрация носителей заряда полупроводника равновесная |
26 |
Концентрация носителей заряда полупроводника собственная |
25 |
Концентрация равновесная |
26 |
Концентрация собственная |
25 |
Концентрация электронов критическая |
29 |
Концентрация электронов проводимости полупроводника критическая |
29 |
Кристалл-фотоэффект |
61 |
Масса носителя заряда полупроводника эффективная |
31 |
Масса носителя заряда эффективная |
31 |
Материал полупроводниковый |
1 |
Носитель заряда |
13 |
Носители заряда горячие |
19 |
Носители заряда полупроводника неосновные |
16 |
Носители заряда полупроводника неравновесные |
18 |
Носители заряда полупроводника основные |
15 |
Носители заряда полупроводника равновесные |
17 |
Носители неосновные |
16 |
Носители неравновесные |
18 |
Носители основные |
15 |
Носители равновесные |
17 |
Носители тепловые |
17 |
Освобождение носителя |
43 |
Освобождение носителя заряда полупроводника |
43 |
Переход вертикальный |
59 |
Переход в полупроводнике прямой |
59 |
Переход прямой |
59 |
Полупроводник |
2 |
Полупроводник вырожденный |
9 |
Полупроводник дырочный |
6 |
Полупроводник компенсированный частично |
11 |
Полупроводник невырожденный |
10 |
Полупроводник примесный |
7 |
Полупроводник простой |
3 |
Полупроводник скомпенсированный |
12 |
Полупроводник сложный |
4 |
Полупроводник собственный |
8 |
Полупроводник электронный |
5 |
Проводимость дырочная |
21 |
Проводимость собственная |
22 |
Проводимость электронная |
20 |
Рекомбинация |
51 |
Рекомбинация межзонная |
52 |
Рекомбинация носителей заряда полупроводника |
51 |
Рекомбинация носителей заряда полупроводника межзонная |
52 |
Рекомбинация носителей заряда полупроводника поверхностная |
55 |
Рекомбинация носителей заряда полупроводника фотонная |
54 |
Рекомбинация носителей заряда полупроводника фотонная |
53 |
Рекомбинация поверхностная |
55 |
Рекомбинация прямая |
52 |
Рекомбинация фотонная |
54 |
Рекомбинация фотонная |
53 |
Сечение захвата носителя заряда полупроводника эффективное |
32 |
Сечение захвата эффективное |
32 |
Степень компенсации |
41 |
Степень компенсации полупроводника |
41 |
Скорость поверхностной рекомбинации |
38 |
Скорость поверхностной рекомбинации носителей заряда полупроводника |
38 |
Слой инверсионный |
42 |
Слой полупроводника инверсионный |
42 |
Ток диффузионный |
56 |
Ток дрейфовый |
57 |
Уровень демаркационный |
82 |
Уровень локальный |
72 |
Уровень полупроводника демаркационный |
82 |
Уровень полупроводника примесный |
81 |
Уровень полупроводника энергетический локальный |
80 |
Уровень примесный |
81 |
Фотопроводимость |
24 |
Ширина запрещенной зоны |
79 |
Ширина запрещенной зоны полупроводника |
79 |
Экстракция |
46 |
Экстракция носителей заряда |
46 |
Электропроводность дырочная |
21 |
Электропроводность полупроводника примесная |
23 |
Электропроводность полупроводника электронная |
20 |
Электропроводность примесная |
23 |
Электропроводность собственная |
22 |
Электропроводность электронная |
20 |
Энергия активации |
39 |
Энергия активации примесей полупроводника |
39 |
Эффект Ганна |
71 |
Эффект магниторезистивный |
69 |
Эффект Нернста |
68 |
Эффект Нернста-Эттингсхаузена |
66 |
Эффект поля |
62 |
Эффект поля в полупроводнике |
62 |
Эффект Риги-Ледюка |
64 |
Эффект термогальваномагнитный |
66 |
Эффект термогальваномагнитный поперечный |
67 |
Эффект термогальваномагнитный продольный |
68 |
Эффект термомагнитный |
64 |
Эффект Томсона |
65 |
Эффект фотомагнитоэлектрический |
63 |
Эффект фоторезистивный |
60 |
Эффект Холла |
70 |
Эффект электротермический |
65 |
Эффект Эттингсхаузена |
67 |
АЛФАВИТНЫЙ УКАЗАТЕЛЬ ТЕРМИНОВ НА НЕМЕЦКОМ ЯЗЫКЕ
АЛФАВИТНЫЙ УКАЗАТЕЛЬ ТЕРМИНОВ НА АНГЛИЙСКОМ ЯЗЫКЕ
АЛФАВИТНЫЙ УКАЗАТЕЛЬ ТЕРМИНОВ НА ФРАНЦУЗСКОМ ЯЗЫКЕ
ПРИЛОЖЕНИЕ
Справочное
Общие понятия физики твердого тела, применяемые к полупроводникам
Термин |
Определение |
1. Электрон проводимости |
Электрон, создающий электропроводность |
2. Полярон |
Квазичастица, представляющая собой состояние поляризации окружающего вещества, вызванное электроном проводимости, движение которого сопровождается перемещением созданной им области поляризации |
3. Экситон |
Квазичастица, представляющая собой электрически нейтральное состояние возбуждения электронов, способное перемещаться на много постоянных решетки и не сопровождающееся возникновением дополнительной проводимости |
4. Дефект решетки |
Нарушение периодичности решетки кристалла |
5. Примесный дефект решетки |
Дефект решетки, созданный атомом постороннего элемент |
6. Стехиометрический дефект решетки |
Дефект решетки в соединении, созданный избытком или достатком атомов по сравнению со стехиометрическим составом |
7. Точечный дефект решетки |
Стехиометрический дефект решетки, эффективные размеры которого порядка параметра решетки |
8. Поверхностный дефект решетки |
Дефект решетки, локализующийся в приповерхностном слое полупроводникового материала на глубинах, соизмеримых с параметрами решетки |
9. Ловушка захвата |
Дефект решетки, способный захватывать подвижные носители заряда с последующим их освобождением |
10. Рекомбинационная ловушка |
Ловушка захвата, нейтрализующая захваченные носители заряда |
11. Акцептор |
Дефект решетки, способный при возбуждении захватывать электрон из валентной зоны |
12. Донор |
Дефект решетки, способный при возбуждении отдать электрон в зону проводимости |
13. Акцепторная примесь |
Примесь, атомы которой являются акцепторами. |
14. Донорная примесь |
Примесь, атомы которой являются донорами |
15. Подвижность носителей заряда |
Отношение средней установившейся скорости перемещения носителей заряда в направлении электрического поля к напряженности последнего |
16. Среднее время свободного пробега носителя заряда |
Среднее время между двумя последовательными соударениями носителей заряда |
17. Средняя длина свободного пробега носителей заряда |
Среднее расстояние между двумя последовательными соударениями носителя заряда |
18. Коэффициент диффузии носителей заряда |
Отношение плотности потока подвижных носителей заряда одного типа к градиенту их концентрации в отсутствие электрического и магнитного полей |
19. Оптическое возбуждение |
Генерация неравновесных носителей заряда при оптическом обучении полупроводника |
20. Инверсия населенностей |
Состояние полупроводника, при котором концентрация носителей заряда на возбужденных уровнях выше равновесной |
21. Электрическое возбуждение |
Возникновение инверсии населенностей в полупроводнике в результате воздействия электрического поля |
22. Собственное поглощение света |
Поглощение полупроводником оптического излучения, обусловленное переходом электронов из валентной зоны в зону проводимости |
23. Экситонное поглощение |
Поглощение полупроводником оптического излучения, сопровождающееся образованием экситона |
24. Примесное поглощение |
Поглощение полупроводником оптического излучения, обусловленное возбуждением примесных дефектов |
25. Фотоэлектрическое поглощение |
Изменение поглощения оптического излучения в результате смещения границы собственного поглощения под воздействием на полупроводник электрического поля |
26. Уровень Ферми |
Энергетический уровень, вероятность заполнения которого равна 0,5 при температурах, отличных от температуры абсолютного нуля |
ПРИЛОЖЕНИЕ. (Измененная редакция, Изм. N 1).
Текст документа сверен по:
официальное издание
Электротехника. Термины и определения. Часть 2:
Сб. стандартов. - М.: Стандартинформ, 2005